Tủ thao tác bán dẫn cho quang khắc KIYON
Tủ thao tác bán dẫn cho quang khắc KIYON là hệ thống Glovebox chuyên dụng để chế tạo và nghiên cứu linh kiện bán dẫn trong môi trường khí trơ, độ sạch cao. Thiết bị có thể tích hợp hệ thống quang khắc, ALD, bay hơi nhiệt và dòng khí tầng, giúp hạn chế mẫu tiếp xúc với oxy, hơi ẩm và bụi. Cấu hình làm mát đế mẫu nhanh chóng cùng hệ thống cách ly rung hỗ trợ nghiên cứu vật liệu bán dẫn 2D, màng mỏng và linh kiện quang điện tử có độ nhạy cao.
- Tên thiết bị: Tủ thao tác bán dẫn tích hợp hệ thống quang khắc KIYON
- Model: Thiết kế theo cấu hình ứng dụng
- Hãng sản xuất: KIYON – Korea Kiyon
- Xuất xứ: Hàn Quốc
- Tên tiếng Anh: Semiconductor Glovebox for Lithography
- Tên gọi khác: Glovebox bán dẫn cho quang khắc, hộp thao tác kín, buồng thao tác bán dẫn, Glovebox for Lithography, Semiconductor Glovebox, Photolithography Glovebox, 2D Semiconductor Glovebox, Inert Atmosphere Microfabrication Glovebox, Thermal Evaporation Glovebox.
Giới thiệu về tủ thao tác bán dẫn cho quang khắc KIYON
KIYON Semiconductor Glovebox được thiết kế và sản xuất bởi KIYON - được hoàn thiện theo cấu hình ứng dụng, cho phép kết nối trực tiếp với hệ thống Photolithography, ALD và Thermal Evaporation. Mẫu có thể được chuyển giữa các công đoạn trong môi trường kiểm soát, hạn chế quá trình oxy hóa và hấp phụ hơi nước.
Hệ thống Laminar Flow giúp giảm bụi và tạp nhiễm trong khu vực thao tác. Cấu hình chống rung chủ động, bellows chuyên dụng và bộ làm mát nhiệt độ cực thấp giúp nâng cao độ ổn định khi chế tạo hoặc phân tích màng mỏng.

Tính năng nổi bật tủ thao tác bán dẫn tích hợp hệ thống quang khắc KIYON
- Làm việc trong môi trường khí trơ, độ sạch cao.
- Tích hợp hệ thống quang khắc Photolithography.
- Kết nối với ALD và thiết bị bay hơi nhiệt.
- Dòng khí tầng giúp hạn chế bụi và tạp nhiễm.
- Bàn chống rung chủ động cho thiết bị chính xác.
- Bellows chuyên dụng giúp giảm truyền rung từ bơm chân không.
- Làm mát đế mẫu trong khoảng từ 0 đến -100°C.
- Độ chính xác điều khiển nhiệt độ ±3°C.
- Hạn chế nhiễu nhiệt trong quá trình lắng đọng.
- Ngăn mẫu tiếp xúc trực tiếp với không khí.
- Cấu hình linh hoạt theo dây chuyền nghiên cứu.


Ứng dụng của buồng thao tác in thạch bản
- Quang khắc và chế tạo vi cấu trúc.
- Lắng đọng màng mỏng bằng ALD.
- Bay hơi nhiệt trong môi trường kiểm soát.
- Nghiên cứu Graphene, MoS₂ và WSe₂.
- Chế tạo linh kiện bán dẫn và quang điện tử.
- Nghiên cứu điện tử linh hoạt.
- Phát triển pin mặt trời, LED và thiết bị lượng tử.
- Nghiên cứu vật liệu 2D và linh kiện nhạy khí.

Thông số kỹ thuật Semiconductor Glovebox for Lithography KIYON
Thông số | Giá trị |
Loại thiết bị | Semiconductor Glovebox |
Ứng dụng | Photolithography, ALD, Thermal Evaporation |
Môi trường làm việc | Khí trơ, độ sạch cao |
Hệ thống dòng khí | Laminar Flow |
Khả năng tích hợp | ALD, Thermal Evaporation, Photolithography |
Hệ thống chống rung | Hardware & Software Vibration Isolation |
Bàn chống rung | Active Vibration Isolation Table |
Hệ thống Bellows | Special Material Bellows |
Nhiệt độ làm mát đế mẫu | 0 đến -100°C |
Độ chính xác điều khiển nhiệt độ | ±3°C |
Đối tượng nghiên cứu | Graphene, MoS₂, WSe₂ và vật liệu bán dẫn 2D |
Khả năng giảm nhiễu nhiệt | Có |
Khả năng tương thích | Thiết bị lắng đọng và hệ thống phân tích bán dẫn |

X