Máy quang phổ điện tử tia X (XPS/HAXPES) phân tích bề mặt vật liệu | PHI Genesis

Máy quang phổ điện tử tia X (XPS/HAXPES) phân tích bề mặt vật liệu

Model: PHI Genesis

Hãng sản xuất: Physical Electronics

Xuất xứ: USA

Tên tiếng Anh: Fully Automated Multi-Technique Scanning XPS/HAXPES Microprobe

Tên gọi khác: Máy quang phổ điện tử tia X quét đa kỹ thuật tự động, hệ thống phân tích bề mặt vật liệu XPS/HAXPES, Thiết bị phân tích bề mặt đa năng, Quang phổ quang điện tử tia X (XPS): Giải pháp phân tích bề mặt và màng mỏng, kính hiển vi XPS/HAXPES quét đa kỹ thuật tự động, kính hiển vi XPS/HAXPES, Thiết bị phân tích bề mặt đa kỹ thuật với quang phổ điện tử tia X

Dòng thiết bị phân tích bề mặt vật liệu giúp quá trình nghiên, phát triển trong các lĩnh vực vật liệu, các thành phần cấu thành của vật liệu đảm bảo chất lượng sản phẩm, đóng vai trò quan trọng cung cấp giải pháp toàn diện cho pin, chất bán dẫn, thiết bị hữu cơ và các ứng dụng khác với độ phân giải cao và không phá hủy độ sâu, kết hợp với nguồn quang phổ điện tử tia XPS/HAXPES.

Thiết bị quang phổ điện tử tia X XPS/HAXPES có nhiều tên gọi khác nhau như kính hiển vi quang phổ điện tử tia X, hay thiết bị phân tích bề mặt...nhưng về mục đích chung thiết bị này sử dụng công nghệ tia X kết hợp HAXPES - gọi là đa kỹ thuật, các quá trình phân tích hoàn toàn tự động, thời gian phân tích ngắn, độ chính xác cao.

Cùng ICG tham khảo nhanh thiết bị nổi bật, nổi tiếng và được cấp bằng sáng chế đến từ hãng sản xuất Physical Electronics

Giới thiệu về thiết bị quang phổ tia X XPS/HAXPES

PHI Genesis là thế hệ mới nhất của dòng sản phẩm XPS/ HAXPES đa kỹ thuật, hoàn toàn tự động cực kỳ thành công của Physical Electronics với nguồn tia X quét đơn sắc, vi tiêu điểm, được cấp bằng sáng chế của PHI. 

Máy quang điện tử tia X sử dụng công nghệ XPS và HAXPES kết hợp trong một nền tảng đa kỹ thuật, là một trong những thiết bị phân tích bề mặt tiên tiến nhất hiện nay, được phát triển bởi Physical Electronics (PHI). Nó được thiết kế để cung cấp các phân tích bề mặt chi tiết và chính xác cho nhiều loại vật liệu khác nhau. Giúp quá trình phân tích đánh giá vật liệu, các sản phẩm nghiên cứu, sản xuất nhanh chóng, hiệu quả cao.

Thiết bị phân tích bề mặt vật liệu đa năng, đa kỹ thuật này là một thiết bị đa kỹ thuật có thể mở rộng và tối ưu hóa quy trình, cách hoạt động với tính linh hoạt và cấu hình vượt trội của dòng sản phẩm cao cấp này. 

Thiết bị quang phổ điện tử tia X XPS/HAXPES này thiết kế hoạt động cực kỳ nhạy, tạo ra quang phổ chất lượng cao trong vài giây. Quá trình hoạt động khép kín hoàn toàn tự động từ quy trình Kiểm soát hệ thống, thu thập, xử lý và báo cáo dữ liệu. Công nghệ tiên tiến, được điều khiển bởi phần mềm trực quan, đảm bảo kết quả và năng suất cao

Máy quang phổ điện tử tia X (XPS/HAXPES) phân tích bề mặt vật liệu này là hệ thống dễ dàng sử dụng, tất cả các quy trình hoàn toàn tự động với chức năng tự động điều chỉnh và hiệu chuẩn cùng nhiều vị trí có hiệu năng cao

Nền tảng đa kỹ thuật tích hợp đầy đủ của PHI Genesis cung cấp tùy chọn các nguồn tia x điện tử tùy chọn, nguồn ion và khả năng xử lý và chuyển mẫu. Các tính năng này rất cần thiết trong việc nghiên cứu các vật liệu, phân tích đặc tính vật liệu và giải quyết hầu hết các vấn đề mà các máy tương tự khó thực hiện được.

Các tính năng nổi bật của kính hiển vi quang phổ điện tử tia X XPS/HAXPES PHI Genesis

• Điều hướng mẫu trực quan và xác định khu vực phân tích độ tin cậy cao

+ Đầu dò tia X quét độc đáo cho phép điều hướng giống như SEM với điều khiển trỏ và nhấp linh hoạt

+ Hình ảnh điện tử thứ cấp tia X (SXI) cung cấp mối tương quan hoàn hảo giữa các khu vực được chụp và quang phổ

+ Công nghệ SmartMosaic giúp điều hướng SXI diện tích lớn và lập bản đồ hóa học nhanh chóng.

• Thiết bị XPS/HAXPES đa kỹ thuật hoàn toàn tự động, thông lượng cao duy nhất trên thị trường có bằng sáng chế

+ Xử lý mẫu lớn

+ Nhiều vị trí xử lý

+ Chuyển và xử lý mẫu hoàn toàn tự động

+ Chuyển đổi tự động nhanh giữa các chế độ XPS và HAXPES

• Cấu hình linh hoạt và tối ưu hóa

+ Thiết bị quang phổ điện tử tia X XPS/HAXPES tích hợp nhiều tùy chọn súng phát ion (Ar đơn nguyên tử, C60, cụm argon GCIB) để phù hợp với nhiều loại vật liệu hữu cơ, vô cơ và hỗn hợp

+ Chức năng máy thiết kế để bàn với 4 trục bao gồm xoay/nghiêng và làm nóng/làm mát trong quá trình phát xạ

+ Cấu hình đa điểm trong một vị trí phun duy nhất để bật/tắt phân tích khuyết tật và các mẫu

+ Góc thu thập chất rắn có thể điều chỉnh để cải thiện độ phân giải góc kết hợp với phần mềm tiên tiến để phân tích cấu trúc màng thông lượng cao

• Phân tích diện tích vi mô vượt trội

+ Độ nhạy diện tích nhỏ cao nhất trên thị trường

+ Kích thước đầu dò vi mô <5 micron theo x và y, đối với nguồn tia X Al và <14 micron đối với nguồn tia X Cr

+ Xử lý hình ảnh để phân tích diện tích vi mô tự động không cần giám sát

• Kết hợp công nghệ HAXPES với khả năng tương thích linh hoạt, tiết kiệm

+ Độ sâu phân tích sử dụng nguồn tia X Cr sâu hơn khoảng 3 lần so với nguồn tia X Al

+ Thăm dò các cấu trúc màng dày hơn và giảm thiểu tác động của nhiễm bề mặt và thiệt hại hóa học do ion gây ra trong quá trình phân tích độ sâu

• PHI Genesis thiết kế với bộ giải pháp chuyên biệt để mô tả đặc tính tại chỗ của vật liệu tiên tiến

+ Cấu trúc dải điện tử của vật liệu hữu cơ và vô cơ sử dụng phép đo UPS, LEIPS, REELS từ cùng một vị trí mẫu

+ Thí nghiệm điện hóa (nghiên cứu phân cực, phân cực)

+ Bình chuyển mẫu trơ

+ Phổ Auger năng lượng cao và độ phân giải không gian cao được tích hợp hoàn toàn với bản đồ nguyên tố tại vị trí quan tâm chính xác như XPS

Ứng dụng phổ biến của máy quang phổ điện tử tia X XPS/HAXPES PHI Genesis

• Tối ưu hóa cấu trúc hóa học định lượng thông lượng cao đến tính chất được sử dụng trong tất cả các loại pin thể rắn, chất bán dẫn, quang điện, chất xúc tác và nhiều ứng dụng khác. Những vật liệu đa thành phần phức tạp này đòi hỏi phải phân tích toàn diện cấu trúc hóa học của chúng để đạt được các tính chất tối ưu.
• Máy quang phổ tia X PHI Genesis cung cấp hiệu suất cao vượt trội với mức độ linh hoạt và tự động hóa cao để đáp ứng các yêu cầu cho tất cả các loại ứng dụng khoa học.
• Các lĩnh vực ứng dụng bao gồm: Chất bán dẫn, pin, thiết bị hữu cơ, chất xúc tác, chấm lượng tử, hạt nano, vật liệu khoa học sinh học và sự sống, polyme, gốm sứ, kim loại và nhiều vật liệu và thiết bị rắn khác.

Tài liệu kỹ thuật của máy quang phổ điện tử tia X XPS/HAXPES PHI Genesis

• Tiếng Anh
• Tiếng Việt