Máy định vị Nano Stylus NS200 – Stylus Nano Profiler đo lớp phủ dày & phân tích bề mặt micro-nano siêu chính xác
Máy định vị Nano Stylus NS200 – Thiết bị đo lớp phủ dày & phân tích bề mặt micro-nano siêu chính xác
Từ khóa nổi bật: Máy định vị Nano Stylus NS200, Máy đo lớp phủ dày NS200, Stylus Nano Profiler, thiết bị đo bề mặt micro-nano, cảm biến chuyển đổi dưới angstrom, đo siêu chính xác.
Giới thiệu Stylus Nano Profiler NS200
Stylus Nano Profiler NS200 hay còn gọi là Máy định vị Nano Stylus NS200 là thiết bị đo tiếp xúc siêu chính xác chuyên dùng để phân tích cấu trúc micro-nano, đo độ dày lớp phủ và kiểm tra biên dạng bề mặt với độ tin cậy vượt trội. Thiết bị được xem là giải pháp hàng đầu trong nhóm thiết bị đo bề mặt micro-nano nhờ khả năng phát hiện dịch chuyển với độ phân giải cực cao.
NS200 sử dụng cảm biến chuyển đổi dưới angstrom, mang lại độ nhạy siêu cao và độ ổn định vượt chuẩn. Nhờ công nghệ xử lý tín hiệu nhiễu thấp, thiết bị cho phép đo độ dày màng mỏng, độ nhám và chiều cao bước micro-nano một cách chính xác mà các hệ thống quang học truyền thống khó đạt được.

Thiết bị đo lớp phủ dày Stylus Nano Profiler NS200
Ưu điểm công nghệ nổi bật của Máy định vị Nano Stylus NS200
Cảm biến chuyển đổi độ phân giải dưới angstrom
Điểm mạnh nhất của Máy đo lớp phủ dày NS200 là cảm biến dịch chuyển siêu nhạy, giúp phát hiện biến thiên bề mặt cực nhỏ ở mức thấp hơn cả 1 angstrom. Điều này mang lại độ chính xác tuyệt đối trong đo lớp phủ mỏng, đo vi cấu trúc và phân tích bề mặt micro-nano.
Thu tín hiệu nhiễu cực thấp – tăng độ tin cậy
Nhờ công nghệ triệt nhiễu tiên tiến, Stylus Nano Profiler NS200 duy trì độ ổn định cao trong mọi điều kiện đo. Đây là yêu cầu quan trọng khi phân tích các lớp vật liệu siêu mỏng hoặc cấu trúc nanomet.
Điều khiển chuyển động siêu mịn
Hệ thống điều khiển của Máy định vị Nano Stylus NS200 sử dụng cơ chế dịch chuyển chính xác từng nano-step, hạn chế tối đa rung động giúp đường quét sắc nét và dữ liệu đo chính xác đến từng chi tiết.
Thuật toán hiệu chuẩn tối ưu
Thiết bị tích hợp thuật toán hiệu chuẩn tự động, đảm bảo kết quả đo ổn định dài hạn và duy trì tính lặp lại cao trong môi trường sản xuất lẫn phòng thí nghiệm.
Ứng dụng của Stylus Nano Profiler NS200 trong công nghiệp

Với lực tiếp xúc cực nhỏ và khả năng đo không phụ thuộc độ phản xạ bề mặt, thiết bị đo bề mặt micro-nano NS200 được ứng dụng rộng rãi trong nhiều ngành công nghệ cao:
- 🔬 Ngành bán dẫn & bán dẫn hợp chất (GaN, SiC)
- 💡 Sản xuất LED công suất cao
- ☀️ Tế bào năng lượng mặt trời & màng mỏng PV
- ⚙️ Hệ thống MEMS và vi cơ điện tử
- 📱 Sản xuất màn hình cảm ứng, OLED, Micro-LED
- 🚗 Thiết bị đo kỹ thuật cao trong ngành ô tô & y tế
Các doanh nghiệp yêu cầu độ chính xác cao thường lựa chọn Stylus Nano Profiler để kiểm soát chất lượng, R&D và đo lường trong dây chuyền sản xuất.
Thông tin chi tiết từ hãng: Stylus Nano Profiler NS200 – Chotest
Liên hệ tư vấn Máy định vị Nano Stylus NS200 – Phân phối chính hãng
Công ty Cổ phần Khoa học và Đổi mới Công nghệ ICG là đơn vị tư vấn và phân phối chính thức các dòng thiết bị đo micro-nano của Chotest tại Việt Nam. Chúng tôi hỗ trợ:
- Tư vấn lựa chọn thiết bị phù hợp (NS200, CP200…)
- Demo trực tiếp tại nhà máy hoặc phòng lab
- Cung cấp đầy đủ CO, CQ, tài liệu kỹ thuật
- Hỗ trợ kỹ thuật – bảo hành dài hạn
Liên hệ ngay để nhận báo giá tốt nhất và tài liệu chuyên sâu.
|
Số hiệu mẫu |
NS200 |
NS200-D |
|
|
Quan sát mẫu |
Điều hướng chế độ xem phía trước |
Camera 5MP nhiều màu FOV: 2.2x1.7mm |
Camera 5MP nhiều màu FOV: 10x13,4mm |
|
Điều hướng chế độ xem bên |
/ |
Camera 5MP nhiều màu FOV: 2x2,68mm |
|
|
Cảm biến |
Quán tính cực thấp, Cảm biến LVDC |
||
|
Đo lực |
1-50mg Có thể điều chỉnh |
||
|
Bút stylus |
Bán kính đầu 2μm, góc 60° |
||
|
Phạm vi di chuyển XY |
X/Y cơ giới (150mm×150mm), cân bằng có thể điều chỉnh thủ công |
||
|
Mẫu giai đoạn R-θ |
Có động cơ, 0~360°, quay liên tục |
||
|
Chân không Chuck |
Đầu kẹp chân không 6 inch |
||
|
Độ dài quét đơn |
55mm |
||
|
Phạm vi quét tối đa |
150(hành trình XY) + phạm vi quét 55mm, phạm vi tối đa là 8 inch |
||
|
Chiều cao mẫu tối đa |
50mm |
||
|
Kích thước wafer tối đa |
200mm (8”) |
||
|
Phạm vi cảm biến*2 |
330μm hoặc 1050μm |
||
|
Tốc độ quét |
2μm/giây~10mm/giây |
||
|
Điểm lấy mẫu quét tối đa |
12000 |
||
|
Kích thước (D x R x C) |
640×610×500mm |
640x650x530mm |
|
|
Cân nặng |
40kg |
||
|
Đầu vào |
AC100~240V, 50/60 Hz, 200W |
||
|
Môi trường làm việc |
Độ ẩm: 30~40% RH (Không ngưng tụ), Nhiệt độ: 16~25°C (Biến động < 2°C/h), Rung động mặt đất: 6,35μm /s (1~ 100Hz), Tiếng ồn âm thanh: ≤80dB, Dòng chảy tầng không khí: ≤ 0,508 m/s (Dòng chảy hướng xuống) |
||
|
Lưu ý: |
|||
|
* 1 Dữ liệu độ lặp lại được đo trong môi trường phòng thí nghiệm đáp ứng tiêu chuẩn VC-C và được trang bị bàn chống rung. Nếu không đáp ứng các điều kiện này, dữ liệu độ lặp lại sẽ tăng gấp đôi. |
|||
|
* 2 Phạm vi cảm biến chỉ có thể được lựa chọn trong khoảng từ 330μm đến 1050μm. Hiện tại, chỉ có đầu dò phạm vi 330μm là đầu dò từ tính. Nếu không có tính năng nào yêu cầu đầu dò phạm vi cực lớn, khuyến nghị sử dụng đầu dò phạm vi 330μm. |
|||

X